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與真空蒸度不同，濺射是利用高能離子碰撞靶材，使之以原子、分子、離子的形成飛出，從而在基板上成膜。這種制模的方法是在我們玻璃瓶廠中在普及而且被工業(yè)化生產(chǎn)的最常用的方法。
所謂濺射的現(xiàn)象是由Grove在放電管內(nèi)壁面上發(fā)現(xiàn)陰極上A1的附著現(xiàn)象后發(fā)現(xiàn)了濺射現(xiàn)象。高能離子（或中性離子）與靶材產(chǎn)生彈性碰撞，靶材表面的離子吸收了這一動(dòng)量，其后與周圍的離子進(jìn)一步碰撞，其結(jié)果切斷了靶材表面原子間相連的鍵，是原子表面飛出，產(chǎn)生了濺射。
濺射中引起的各種效應(yīng)對玻璃瓶成膜濺射有效的是二次電子發(fā)射，玻璃瓶陰極（靶材）濺射、氣體解析分解，對陰極的加熱、院子在布局的擴(kuò)散、晶格變化及離子注入。
二次電子數(shù)與入射正粒子數(shù)目相比r成為玻璃瓶的二次電子發(fā)射系數(shù)，其值大小受靶材性質(zhì)、正離子質(zhì)量及電離電位和他的動(dòng)量大小的影響。當(dāng)正粒子能量達(dá)到幾十至幾百電子伏時(shí)r值在玻璃瓶公司幾百分之一只幾十分之一之間。
正離子碰撞靶材時(shí)會(huì)將其加熱，其能量的75%轉(zhuǎn)變?yōu)闊?，由此靶材需要做良好的冷卻，以免靶材的分解乃至溶化。
一般玻璃瓶廠真空蒸度中由蒸發(fā)源飛出原子的能量為0.1ev，而靶材中飛濺出的原子能量要比真空蒸度源飛出原子能量要大1~2個(gè)數(shù)量級，約為5~10eV，每個(gè)單位時(shí)間內(nèi)有濺射速度R，R值與入射正離子密度與濺射系數(shù)值積成正比。
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